国のコア技術である半導体ウェハー研磨（CMP）技術などを中国に流出した容疑で、韓国国内の半導体大手企業の元職員など6人が裁判にかけられた。 特許庁技術デザイン特別司法警察（技術警察）と大田（テジョン）地方検察庁は26日、産業技術保護法および不正競争防止法違反の容疑でA氏（55）ら3人を拘束…
国のコア技術である半導体ウェハー研磨（CMP）技術などを中国に流出した容疑で、韓国国内の半導体大手企業の元職員など6人が裁判にかけられた。 特許庁技術デザイン特別司法警察（技術警察）と大田（テジョン）地方検察庁は26日、産業技術保護法および不正競争防止法違反の容疑でA氏（55）ら3人を拘束…