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大田地検の全景＝ハンギョレ資料写真//ハンギョレ新聞社 韓国企業の半導体関連重要技術を中国に流出させた疑いで、国内の大企業と中堅企業の元・現社員が裁判にかけられる。 大田（テジョン）地検と特許庁の技術デザイン特別司法警察は26日、半導体ウェハーの研磨(CMP)関連技術を中国に流出させた疑い(…